半導体廃水ゼロ液体排出-杭州科鋭環境エネルギー技術有限公司

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半導体廃水ゼロ液体排出

【プロジェクト概要】

半導体製造プロセスにおいて、ウェハー洗浄、エッチング、堆積などの工程では、塩酸や塩化アンモニウムなどの塩素系化学薬品が大量に使用され、塩化物塩を主成分とする高塩分廃水が発生します。この種の廃水は塩分濃度が高い（塩化物濃度はしばしば5-8%に達する）だけでなく、銅、ニッケルなどの重金属イオン、フォトレジスト残渣などの有機汚染物、および微量のフッ化物も含有しており、処理難易度は工業廃水の中でも最高レベルに位置します。従来の廃水処理プロセスでは「ゼロエミッション」と「資源回収」という二つの要求を同時に満たすことが困難でした。クリエートは本プロジェクトにおいて、「前処理＋電気透析膜濃縮＋MVR蒸発結晶」という全工程技術により、**16%** という塩化物塩濃縮濃度を実現し、業界に廃水処理の新たなモデルを確立しました。

【プロジェクトの特徴】

全工程一体設計による安定した基準達成と結晶化・塩回収の実現
プロジェクトは「前処理＋MVR結晶」という完全なプロセス路線を採用し、廃水の前処理、深度濃縮から最終的な資源化結晶化までの全工程の確立に成功しました。これはシステム最終的な放流水の安定した基準適合を保証するだけでなく、混合塩の固形での結晶分離を実現し、半導体製造廃水の徹底的な処理と資源化に対して信頼性の高い最終解決策を提供します。
高倍率濃縮技術による末端処理コストの顕著な低減
化物塩を主成分とする半導体製造廃水に対し、プロジェクトは濃縮濃度を**16% (160 g/L)** にまで高めることに成功しました。この高倍率の濃縮効果により、MVR蒸発結晶システムに流入する廃水量が大幅に減少し、高エネルギー消費を伴う末端ユニットへの設備投資と運転コストを直接削減します。これにより、ゼロエミッション方案の経済的な実行可能性が高まりました。
精密な前処理プロセスによる核心システムの安定運転の保証
半導体製造廃水は成分が複雑で、重金属などの不純物を含みます。プロジェクトが特徴とする前処理システムは、后续の膜濃縮およびMVR装置にとって有害な成分を効果的に除去し、核心プロセスセクションが汚染やスケーリングの影響を受けることを防ぎ、全工程の長期にわたる安定かつ高効率な運転を保証します。
廃水の資源化実現による環境と経済の両価値の同時達成
プロジェクトは最終的にMVR結晶により固体の混合塩を回収します。これは混合塩ではあるものの、汚染物質の固化と減量化を実現し、后续の条件付きでの資源化利用または適切な処分の基礎を築きました。工程全体は、半導体製造廃水を環境負荷から潜在的な資源へと転換し、環境効果とコスト管理の統一を実現しました。